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(专利申请、发明专利申请、实用新型专利申请、外观设计专利申请、专利优先审查、合肥专利预审、商标注册、商标logo设计、软著登记、作品版权登记(音乐、影视、文字、美术等))
(一)申请人的姓名或者名称、地址或者居住地;
(二)申请人的国籍;
(三)布图设计的名称;
(四)布图设计创作者的姓名或者名称;
(五)布图设计的创作完成日期;
(六)该布图设计所用于的集成电路的分类;
(七)布图设计有条例十七条所述商业利用行为的,该行为的发生日;
(八)布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数;
(九)附加文件及样品清单;
布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求:
(一)复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上;申请人可以同时提供该复制件或者图样的电子版本;提交电子版本的复制件或者图样的,应当包含该布图设计的全部信息,并注明文件的数据格式;
(二)复制件或者图样有多张纸件的,应当顺序编号并附具目录;
(三)复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式;如果大于A4纸的,应当折叠成A4纸格式;
(四)复制件或者图样可以附具简单的文字说明,说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。
布图设计在申请日之前没有投入商业利用的,该布图设计登记申请可以有保密信息,其比例不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。
布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息。
布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品,并应当符合下列要求:
(一)所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中,并附具填写好的国家知识产权局统一编制的表格;
(二)器具表面应当写明申请人的姓名、申请号和集成电路名称;
(三)器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定,不得有损坏,并能够在干燥器中至少存放十年。
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